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icp刻蚀
"相关结果约1,000,000个 2015年8月15日 - 各位虫友,我最近用ICP刻蚀 ITO薄膜,用的气体是 CH4和 Ar2 .本身的目的是为了能够在另外一个 A薄膜上面长 ITO进行刻蚀的...
www.docin.com2018年4月16日 - 仪器名称:离子刻蚀厂商:英国型号:Oxford PLASMAPRO 100 ICP COBRA购买日期:2018-4-16放置地点:化学楼B117管理员:张盼科简介:资料暂缺 仪器预约入口导...
sklac.nju.edu.cn2019年6月1日 - PECVD和ICP刻蚀技术及应用 摘要: 等离子体增强化学气相淀积(PECVD)和电感耦合等离子体刻蚀(ICP)是半导体制造工业中常用的薄膜淀积和干法刻蚀技术,在...
wenku.so.com可实现范围广泛的刻蚀工艺,包括刻蚀III-V化合物(如GaAs,InP,GaN,InSb)、II-VI化合物、介质材料、玻璃、石英、金属,以及硅和硅的化合物(如SiO2、Si3N4、SiC、SiGe)等。.NRE-...
muchong.com>...>ICP&RIE干法刻蚀ICP刻蚀工艺要点资料.doc
max.book118.comPECVD和ICP刻蚀技术及应用
www.wanfangdata.com.cnNRE-4000(ICPA)全自动ICP刻蚀系统_ICP及DRIE刻蚀系统系列-那诺中国有限公司
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